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| 1 | CMOS传感器紫外敏化膜层的厚度优化及其光电性能测试显示文摘采用真空热阻蒸方式在CMOS图像传感器感光面上镀制不同厚度性比价高的Lumogen薄膜.研究发现不同Lumogen薄膜厚度的CMOS传感器的暗电流噪声未发生明显变化,说明真空热蒸发方式对互补金属氧化物半导体器件本身未造成热损伤;光响应非均匀度随膜厚增加而增大;动态范围却随膜厚增加而减小;量子效率随膜厚增加呈现先增大后减小.同时,研究发现敏化膜层最佳厚度为389nm,此时CMOS传感器的量子效率提高了10%,且光响应非均匀度,动态范围均在相对较好的范围内. | 刘琼 马守宝 钱晓晨 阮俊 卢忠荣 陶春先 | 2017 | 光子学报2017，46，6： | 8 |
| 2 | 紫外增强Lumogen薄膜旋涂法制备及其性能表征显示文摘Lumogen薄膜用于固态硅基探测器件CCD紫外增强具有显著的成本和工艺优势。研究旋涂法制备Lumogen薄膜的CCD紫外增强技术,通过对薄膜的光谱分析得到优化的制备工艺。制备的薄膜在可见光波段透过率较高,对紫外波段的光具有较强的吸收,其发射峰位于525nm,并且激发谱较宽,涵盖200~400nm。实验结果表明使用旋涂法制备的紫外增强薄膜,能将紫外光转化为可见光,并且在增强紫外响应的同时,不削弱可见波段的响应,是一种有效增强固态检测器紫外响应的紫外增强薄膜。 | 姜霖 张大伟 陶春先 黄元申 王琦 倪争技 庄松林 | 2013 | 光谱学与光谱分析2013，33，2： | 7 |
| 3 | 紫外增强硅基成像探测器进展显示文摘硅基紫外成像探测技术具有可靠性好、集成度高、容易大面阵化、成本低等优势,成为探测领域的重要研究方向。随着硅半导体工艺的持续进步以及纳米科学的发展,利用半导体技术、荧光转换材料或者低维纳米结构来增强硅基探测器的紫外响应取得了长足的进步。本文综述了国内外硅基紫外增强成像探测器件、系统应用的进展,通过回顾器件发展的历史和对研究现状的分析,并结合紫外探测技术在天文物理、生化分析、电晕检测等领域的应用进展,探讨了硅基紫外成像探测技术发展的趋势和挑战。 | 张猛蛟 蔡毅 江峰 钟海政 王岭雪 | 2019 | 中国光学2019，12，1： | 6 |
| 4 | 旋涂法和热蒸发制备紫外CCD用晕苯薄膜的性能对比显示文摘晕苯是一种用于真空紫外光致发光重要的下转换材料。本文研究旋涂法和热蒸发法制备紫外CCD用晕苯薄膜的工艺方法,并对所制备的两种薄膜的性能进行了表征和对比。测试结果表明:旋涂方式成膜工艺简单,材料利用率较高,并且保持了荧光材料本身固有的晶体结构,但是膜面粗糙度较大;热蒸发方式成膜后紫外吸收较强,荧光发射强度相对较高,成膜后膜面粗糙度较小;热蒸发工艺在加热过程中改变了晕苯的晶体结构并形成了新的结晶态;相比于旋涂法,热蒸发的整个制备工艺相对复杂,并且生产成本较高。此外,该对比性研究工作为实现不同要求(如荧光发射强度、表面粗糙度、生产成本等)的荧光下转换薄膜的制备提供了理论指导。 | 何梁 张大伟 陶春先 洪瑞金 黄元申 | 2014 | 光谱学与光谱分析2014，34，5： | 5 |
| 5 | 便携式紫外-可见光谱仪设计及关键技术研究显示文摘随着紫外光谱探测技术的广泛应用,低成本便携式紫外-可见光谱仪成为该领域的研究热点。本文首先依据交叉型Czerny-Turner结构设计了便携式紫外光谱仪光路结构。其次,针对性研究了紫外光谱仪的关键器件:紫外探测器和闪耀光栅。利用Lumogen荧光材料和蒸镀成膜法制作镀膜紫外增强CCD,并分析了荧光薄膜在CCD表面的位置对分辨率的影响;从理论上分析了闪耀光栅对于紫外波段的多级衍射效率的影响,确定了紫外光谱仪对于闪耀光栅的选择。最后,研制的便携式紫外-可见光谱仪样机的性能测试结果表明,200 nm^900 nm波段、25μm狭缝宽度、600lp/mm、300 nm闪耀光栅配置下分辨率整体小于1.5 nm,200 nm^300 nm紫外波段的光谱响应度提高到20%,实现了便携式紫外-可见光谱仪的设计要求。 | 王国栋 夏果 李志远 胡明勇 陆红波 | 2018 | 光电工程2018，45，10： | 4 |
| 6 | 微型光谱仪中传感器S11639的非线性校正显示文摘S11639线阵传感器常被用于需要紫外测量的微型光谱仪中。但当S11639曝光量较大时,会出现光谱响应的非线性,从而影响微型光谱仪的动态范围,因此必须进行非线性校正。利用卤钨灯与氘灯测量微型光谱仪的光电响应特性曲线,找出S11639的曝光量与A/D转换输出的线性部分,对数据进行直线拟合,获得S11639在线性范围内的系数。在此基础上,外推得到其在非线性范围内的理论值,求出理论值与实际测量值的差异,利用最小二乘法进行多项式拟合,实现S11639线阵传感器的非线性校正。同时,对比实验结果,分析实验数据的误差成因,为更好地利用基于S11639微型光谱仪的全动态范围光电检测提供实验依据。 | 童建平 高建勋 汪飞 杨浩 | 2017 | 光电工程2017，44，11： | 3 |
| 7 | CCD紫外增强薄膜旋涂法工艺优化显示文摘在硅基探测器的入射窗上制备荧光下转换薄膜,是一种有效降低成本的紫外荧光增强技术。从理论上探讨了由聚二甲基硅氧烷与颜料黄101混合胶体的紫外荧光薄膜旋涂工艺参数与性能之间关系,搭建紫外荧光薄膜应用于光谱分析的性能测试实验平台,对紫外荧光增强薄膜旋涂工艺参数质量配比、旋涂转速进行优化。光谱分析探测器有两个主要指标,光谱响应灵敏度和光谱分辨率,分析与实验结果表明,利用旋涂法制备紫外增强荧光薄膜,旋涂转速将直接影响薄膜的厚度、表面粗糙度和荧光物质的分布,从而影响光谱分析系统的分辨率;紫外荧光增强薄膜的增强效率与荧光溶剂聚二甲基硅氧烷与荧光物质颜料黄101的质量比密切相关,质量比低无法满足对紫外响应效率的提高,但高质量比,荧光物质处在聚集态荧光自猝灭严重,也不利于增强薄膜的紫外响应效率。最终,在薄膜旋涂工艺优化的基础上,旋涂转速2 500~3 000r·min^(-1),荧光物质与荧光溶剂质量比为7∶100制备出紫外荧光增强薄膜。汞灯特征光谱测试结果表明该薄膜313nm紫外波长处探测响应灵敏度提高了1.6倍左右,对比分析镀膜前后特征光谱的半波带宽,镀制紫外增强荧光薄膜对其影响很小。 | 冯宇祥 孟银霞 张国玉 吴一辉 郝鹏 | 2017 | 光谱学与光谱分析2017，37，9： | 3 |
| 8 | 基于S11639的紫外-可见光谱仪的设计显示文摘目前微型紫外光谱仪多采用背向减薄式或镀膜CCD作为感光元件,针对其价格昂贵的问题,提出了将高性价比的CMOS传感器芯片S11639应用于紫外-可见光谱仪中的设计方案,系统采用非对称性的切尔尼-特纳光学系统进行分光处理,利用STM32微处理器芯片配合复杂可编程逻辑器件CPLD来设计电路将数据上传到上位机,进行光谱图像显示。通过实验对比,验证了用该方案设计的微型紫外-可见光纤光谱仪,具有良好的紫外敏感性,频谱范围为200~900nm,分辨率可达1.5nm。 | 童建平 董少波 杨浩 徐丹阳 汪飞 | 2015 | 光学仪器2015，37，3： | 3 |
| 9 | MgF_2薄膜对荧光薄膜紫外响应灵敏度的增强特性研究显示文摘在光敏面上镀制荧光薄膜将紫外光转变为可见光,是提高CCD和CMOS图像传感器紫外响应灵敏度的一种有效方法。针对荧光薄膜入射界面的散射和反射损耗降低荧光发光强度的分析,研究在荧光薄膜上镀制增透膜和阻隔膜的灵敏度增强特性。采用真空热阻蒸发的镀膜方法分别制备了单层Lumogen荧光薄膜和MgF2/Lumogen复合膜。利用原子力显微镜,紫外可见近红外分光光度计,荧光光谱仪对两种样品的表面粗糙度,漫反射和透射光谱以及荧光发光光谱分别进行对比测试分析。结果表明:M g F2保护层降低了表面粗糙度,减小了入射界面的漫反射损耗,对500~700 nm的可见波段具有明显增透作用,也增强了Lumogen薄膜对紫外波段受激发射的荧光强度;同时,MgF2薄膜的抗损伤及水汽隔离性能对荧光薄膜紫外响应能力具有保护作用,为延长紫外CCD薄膜及器件的工作寿命提供了有效手段。 | 卢忠荣 倪争技 陶春先 洪瑞金 张大伟 黄元申 | 2014 | 光谱学与光谱分析2014，34，3： | 2 |
| 10 | 紫外增强图像传感器的研究进展显示文摘近年来图像传感器在紫外成像的应用越来越广泛,尤其是以CCD(charge coupled device)和CMOS(complementary metal oxide semiconductor)为主的紫外图像传感器受到了研究人员的广泛关注。半导体技术的进步和纳米材料的发展进一步推动了紫外图像传感器的研究。本文综述了国内外紫外增强图像传感器的研究进展,介绍了几种增强器件紫外响应的材料,另外还简要概述了紫外图像传感器在生化分析、大气监测、天文探测等方面的应用,并讨论了CCD/CMOS图像传感器在紫外探测方面所面临的挑战。 | 罗磊 唐利斌 左文彬 | 2021 | 红外技术2021，43，11： | 1 |
| 11 | 旋涂法制备紫外荧光增强薄膜几种溶剂的比较显示文摘紫外荧光增强薄膜是一种有效提高硅基探测器紫外响应效率的荧光增强技术。对于旋涂法制备薄膜来说,溶剂的选择很重要,对使用不同溶剂旋涂制备的薄膜分析其紫外光谱透过率,成膜效果和荧光物质分布。四氢呋喃作为溶剂在旋涂的过程中全部挥发,虽不影响紫外光谱的透过率,但荧光物质的分布和表面粗糙度不理想。硝化棉相比于PMMA(聚二甲基硅氧烷,polydimethylsito xane)和PDMS(聚甲基丙烯酸甲酯,Polymethy Imethacrylate)紫外透过率低。PMMA常温状态下为固体,需要使用氯代烃或者芳烃溶解再旋涂,溶解时间较长且成膜效果不好;PDMS为胶体同荧光物质混合后直接旋涂,再加热80℃固化成膜,成膜效果好表面,粗糙度低,且荧光物质分布均匀。 | 冯宇祥 孟银霞 张国玉 郝鹏 | 2016 | 长春理工大学学报(自然科学版)2016，39，6： | 1 |
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