真空高温氢化法制备Pd-Zr复合膜

查看全文 作　　者：[1,2]陈绍华;[1]邢丕峰;[3]陈文梅;[1]刘俊

机构地区：[1]中国工程物理研究院核物理与化学研究所;[2]四川大学化工学院成都610065;[3]四川大学化工学院

出　　处：《核技术》索引2004年第27卷第10期,共5页

基　　金：中国工程物理研究院核物理与化学研究所所长基金资助 摘　　要：为了获得低成本、高渗氢率、长寿命、高强度的选择渗氢膜,耐熔金属锆(Zr)被选作复合膜的基体。在真空 4.0×10-4 Pa、温度 650 ℃的反应条件下,锆表面氧化膜松动、分解 ,氧化膜被去除 ;再在氢气氛中使其洁净表面上生成一层氢化锆保护膜 ; 在真空度为 6.6×10-6 Pa 下,采用离子溅射镀膜法,在锆片(φ 50 mm×0.23 mm)的双表面上分别镀上了一层厚约 400 nm 的钯(Pd)薄膜,钯膜均、细腻、光洁 , 膜厚易控制 ;再经过退火处理 ,制得了 Pd-Zr复合膜, 膜面致密 , 钯膜与基体锆结合力强 ,内应力消失。采用 X 射线衍射(XRD)和 X 光电子能谱(XPS)对锆表面及复合膜表面进行了分析。制备的 Pd-Zr 选择渗氢复合膜对核燃料和聚变燃料的纯化及反应堆增殖剂中氚的提取将具有很大的应用前景。 关键词：氢气纯化复合膜高温真空氢化

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