紫外均匀曝光对长周期光纤光栅耦合特性的影响

查看全文 作　　者：[1]关柏鸥;Tam H [1]Y;[1]HoSL;[2]董孝义

机构地区：[1]香港理工大学电机工程系;[2]南开大学现代光学研究所,天津300071

出　　处：《光学学报》索引2001年第21卷第2期,共3页

基　　金：香港理工大学资助 摘　　要：写于载氢光纤上的长周期光纤光栅经过高温退火后 ,对其进行紫外均匀曝光能够有效改变其耦合特性。随着曝光量的增加 ,其共振波长向长波方向移动 ,共振峰强度先增大继而减小。并对此给出了理论解释。 关键词：长周期光纤光栅耦合特性紫外均匀曝光共振波长共振峰强度

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