Al/Al_2O_3多层膜的表面和界面的分析研究

查看全文 作　　者：[1]薛钰芝;Martin A [2]Green

机构地区：[1]大连铁道学院,大连116028;[2]澳大利亚新南威尔士大学光伏工程研究中心

出　　处：《真空科学与技术》索引2002年第22卷第1期,共4页

基　　金：澳大利亚科学基金 摘　　要：用热蒸发沉积和自然氧化及加热法制备纳米量级的Al/Al2 O3薄膜和多层膜。用X射线光电子谱仪 (XPS)和透射电镜 (TEM)对样品进行检测。XPS实验说明自然氧化的Al2 O3膜层厚在 2~ 5nm。Al/Al2 O3薄膜及多层膜的O与Al的原子浓度比为 1 4 3~ 1 85。Ar离子刻蚀的XPS实验结果 (刻蚀速率为 0 0 9nm/s)说明 :2个对层的Al/Al2 O3多层膜截面样品具有周期性结构。TEM观察到了 5个对层的Al/Al2 O3多层膜的层状态结构 ,其周期为 4nm。由此说明 ,热蒸发及自然氧化法是制备纳米量级的Al/Al2 关键词：Al/Al2O3多层膜表面分析显微分析铝/氧化铝太阳能电池热蒸发沉积自然氧化材料

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