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时间 1989 - 2010 学科选择学科
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1Structural and electrical properties of ZnO films on freestanding thick diamond films显示文摘In this paper, ZnO films are deposited on freestanding thick diamond films (FTDF) by plasma-assisted metal organic chemical vapour deposition (MOCVD). Diethyl zinc (DEZn), O2 and N2O are applied as precursors and different substrate temperatures are used to achieve high quality ZnO films. The influence of substrate temperature on the properties of ZnO films is systematically investigated by X-ray diffraction (XRD), Hall measurements and electron probe microanalysis (EPMA). Experimental results demonstrate that ZnO films deposited at 600℃ and 73 Pa display a fine electrical quality and Zn/O atomic ratio plays an important role in the electrical property of ZnO films.SUN Jian BAI YiZhen SUN JingChang DU Guomong JIANG Xin 2008Chinese Science Bulletin2008，53，19：4
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