| 1 | 炭黑和炭黑/白炭黑纳米粒子分散于光致抗蚀剂的场致发射显示文摘将炭黑及与白炭黑纳米粒子混合的炭黑分散在Shipley1818光致抗蚀剂中,并在涂覆铜的硅基底上场的电子发射性能介于3-5V/μm的范围。这些结果可与同样分散于光致抗蚀剂且以类似方式制备的碳纳米管(CNT)媲美。C/SiO2试样的电流引出场曲线显示出明显的峰值,C和CNT试样则呈现出饱和区。据推测是杂质存在引起的谐振隧道化导致了该行为。这些薄膜经受的最大沉积温度为120℃,这就使它们成为低成本、大面积电子和X-射线源的理想候选者。光致抗蚀剂的主要作用是将碳材料的附着力提供给基底。 | H.Busta E.Edwards 朱永康(译) | 2005 | 炭黑工业2005，，6： | 0 |
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