| 2 | Experimental Status of the HANBIT Facility显示文摘HANBIT is a magnetic mirror confinement device. Recent physics experiments have been mainly focused on identifying discharge characteristics and on getting stable plasma production and operation modes, by using a 500 kW slot antenna system at a fixed RF frequency of 3.5 MHz and varying discharge conditions such as fueling rate, RF power, and B-field intensity in central cell. Two distinct operation modes are found to be very sensitive to the RF power as well as the ratio of the RF frequency to the ion cyclotron frequency. A MHD interchange mode of m- -1 is clearly observed and the stabilizing mechanism can be explained by the sideband coupling theory. | S.J.Yoo M.Kwon J.G.Bak K.Choh I.S.Choi J.H.Choi J.W.Choi A.C.England J.Hong H.S.Jeon H.G.Jhang J.S.Ju M.Jung J.Y.Kim S.S.Kim W.H.Ko K.Y.Kwak M.C.Kyum B.J.Lee D.K.Lee J.H.Lee H.G.Lee S.G.Lee T.Lho H.K.Na B.H.Park M.K.Park D.C.Seo S.H.Seo J.H.Yeom J.S.Yoon K.I.You | 2004 | Plasma Science and Technology2004，6，4： | 1 |
| 3 | 硬质合金WC—TiAlN超硬纳米复合涂层的显微结构、力学性能与应用显示文摘利用多阴板电弧离子镀装置在WC-Co硬质合金基体上沉积了WC-Ti(1-x)AlxN纳米复合涂膜。为了获得层状结构,基体座以6rev/min的速度旋转。为了弄清纳米结构涂膜的生长机理,对涂膜的显微结构和力学性能进行了研究。WC-Ti(1-x)AlxN涂膜的显微结构取决于Al含量(x)。通过控制Al阴极的电弧功率密度来改变涂膜中Al含量。随着涂膜中Al含量增大,WC和TiAlN层之间的界面共格性不稳定,并当x增大到0.57时,WC-Ti0.43Al0.57N涂膜则显示出完整的纳米晶体结构,其晶粒尺寸为10nm,与超晶格常数(λ)一致。WC-Ti(1-x)AlxN涂膜内的残余应力与x值无关,其测定值大约为6.5GPa。涂膜的这种高应力通过周期性地涂覆,Ti-WC过渡层降低到4.7GPa。过渡层厚度(Dbuffer)与纳米复合层厚度(Dnc)之比(Dbuffer/Dnc)可达0.8。当Dbuffer/Dnc比为0.3时,涂膜的粘结强度达到最大值即45.5N,而当Dbuffer/Dnc比高于0.3时,涂膜的粘结强度则下降到25N。WC-Ti1-xAlxN涂膜的显微硬度在38GPa-50GPa的范围内,并获得了WC-Ti0.43Al0.57N纳米复合涂膜最高的硬度值。X-射线衍射分析表明,Ti0.43Al0.57N涂膜与只显示出TiAlN(111)和(200)反射线的超硬(H≥40GPa)相呈现相同的结构。同时,透射电子显微镜分析也说明,WC-Ti0.43Al0.57N涂膜是由极其微细(1-10nm)的纳米晶粒组成的。因此,我们认为,涂膜的纳米晶体显微结构对显著提高涂膜的硬度是极其重要的。由于WC-Ti0.43Al0.57N纳米复合涂膜具有最高的硬度和良好的粘结强度,因此,涂覆该涂层的印刷电路板钻头在现场试验中显示出优异的使用性能,其使用寿命比未涂层的钻头提高1倍以上。 | J.S.Yoon 李沐山 | 2002 | 国外难熔金属与硬质材料2002，18，2： | 0 |
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