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时间 1989 - 2010 学科选择学科
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14篇 您的检索式：作者名="Mientus R"
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1Influence of discharge parameters on the layer properties of reactive magnetron sputtered ZnO:Al films显示文摘Ellmer K Kudella F Mientus R 1994Thin Solid Films1994，247，：1
2Influence of discharge parameters on the layer properties of reactive magnetron sputtered ZnO:Al films显示文摘Ellmer K Kudella F Mientus R 1994Thin Solid Films1994，247，：1
3显示文摘Ellmer K Kudella F Mientus R 1994Thin Solid Films1994，247，：1
4Carrier transport in polycrystalline transparent conductive oxides:A comparative study of zincoxide and indium oxide显示文摘ELLMER K MIENTUS R 2008Thin Solid Films2008，516，：1
5显示文摘 Kudella F Mientus R 1994Thin Solid Films1994，247，：1
6Reactive magnetron sputtering of tindoped indium oxide(ITO):influence of argon pressure and plasma excitation 显示文摘Mientus R Ellmer K 2001Surf Coat Techn2001，142，144：1
7Carrier Transport in Polycrystalline Transparent Conductive Oxides : A Comparative Study of Zinc Oxide and Indium Oxide 显示文摘EUmer K Mientus R 2008Thin Solid Films2008，516，14：1
8Reactive DC magnetron sputtering of elemental targets in Ar/N2 mixtures: relation between the discharge characteristics and the heat of formation of the corresponding nitrides显示文摘MIENTUS R ELLMER K 1999Surface and Coatings Technology1999，，：1
9显示文摘Ellmer K Kudella F Mientus R 1994ThinSolid Films1994，247，：1
10Carrier transport in polycrystal- line transparent conductive oxides: A comparative study of zinc oxide and indium oxide显示文摘Ellmer K Mientus R 2008Thin Solid Films2008，516，14：1
11显示文摘Ellmer K Kudella F Mientus R 1994Thin Solid Films1994，247，1：1
12Reactive magnetron sputtering of tin-doped indium oxide(ITO) : influence of argon pressure and plasma excitation 显示文摘Mientus R Ellmer K 2001Surface and Coating Technology2001，，：1
13Pregnancy outcome in women with systemic lupus erythematosus treated with immunosuppressive drugs显示文摘Ramsey Goldman R Mientus JM Kutzer JE 1993J Rheumatol1993，20，7：1
14Reactive DC Magnetron Sputtering of Elemental Targets in Ar/N2 Mixtures:Relation Between the Discharge Characteristics and the Heat of Formation of the Corresponding Nitrides显示文摘Mientus R Ellmer K 1999Surface and Coatings Technology1999，，116119：1
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