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时间 1989 - 2010 学科选择学科
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9篇 您的检索式：作者名="NASUHOGLU D"
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1Removal of the antibiotic levofloxacin (LEVO) in water by ozonation and TiOz photocatalysis显示文摘NASUHOGLU D RODAYAN A BERK D 2012Chemical Engineering Journal2012，，：1
2Photo-removal of sulfamethoxazole (SMX) by photolytic and photocatalytic processes in a batch reactor under UV-C radiation (lambdamax = 254 nm) 显示文摘Nasuhoglu D Yargeau V Berk D 2011Journal of Hazardous Materious2011，186，：1
3Photocatalytic removal of 17α - ethinylestradiol (EE2) and levonorgestrel ( LNG ) from contraceptive pill manufacturing plant wastewater under UVC radiation 显示文摘Nasuhoglu D Berk D Yargeau V 2012Chem Eng J2012，18，15：1
4Removal of the antibiotic levofloxacin (LEVO) in water by ozonation and TiO= photoeatalysis显示文摘Nasuhoglu D Rodayan A Berk D 2012Chem Eng J2012，190，：1
5A simple thermal CVD method for carbon nanotube synthesis on stainless steel 304 without the addition of an external catalyst显示文摘Baddour C E Fadlallah F Nasuhoglu D 2008Carbon2008，47，12：1
6Photo-removal of sulfamethoxazole (SMX) by photolytic and photocatalytic processes in a batch reactor under UV-C radiation (λmax=254 nm)显示文摘Nasuhoglu D Yargeau V Berk D 2011Joumal of Hazardous Materials2011，186，1：1
7The complex and intriguing lives of PIP2 with ion channels and transporters显示文摘Hilgemann D W Feng S Nasuhoglu C 2001Sci STKE2001，2001，：1
8Photo-removal of Sulfamethoxazole (SMX) by Photolytic and Photocatalytic Processes in a Batch Reactor under UV-C Radiation (λmax = 254 nm)显示文摘Nasuhoglu D Yargeau V Berk D 2011Journal of Hazardous Materials2011，186，1：1
9Photo-removal of sulfamethoxa- zole (SMX) by photolytic and photocatalytic processes in a batch re- actor under UV-C radiation (A=254 nm)显示文摘Nasuhoglu D Yargeau V Berk D 2011Joumal of Hazardous Materials2011，186，1：1
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