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时间 1989 - 2010 学科选择学科
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11篇 您的检索式：作者名="STAMPER A K"
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    题名 作者 年代 出处 被引量
1Measurement of plasma opacity from laser produced optically thin strongly coupled plasmas显示文摘Mostovych A N Kearney K J Stamper J A 1991Phys Rev Lett1991，66，：1
2Characterization of plasma-enhanced chemical vapor deposited nitrides films used in very large scale integrated applications 显示文摘STAMPER A K PENNINGTON S L 1993J Electrochem Soc1993，140，：1
3Characterization of yttria-stabilized zirconium oxide buffer layers for high-temperature superconductor thin films显示文摘LEE J W SCHLESINGER T E STAMPER A K 1988J Appl Phys1988，64，：1
4Plasma assisted chemical vapor deposition of dielectrics thin films for ULSI semicoductor circuits显示文摘 Nguyen S V Stamper A K 1999IBM J Res Develop1999，43，12：1
5Reversible formation of a BoseEinstein condensate显示文摘STAMPER K D M M1ESNER H J CHIKKATUR A P 1998Phys Rev Lett1998，81，11：1
6Spontaneous magnetic fields in laser-produced plasmas显示文摘Stamper J A Papadopoulos K Sudan R N 1971PhysRev Lett1971，26，17：1
7Plasmassisted chemical vapore deposition of dielectric thin film for ULSI semiconductor circuit显示文摘Cote D R Nguyen S V Stamper A K 1999Res Dev1999，43，：1
8Spontaneous magnetic fields in laser-produced plasmas显示文摘Stamper J A Papadopoulos K Sudan R N 1971Physical Review Letters1971，26，17：1
9Plasma-assisted chemical vapor deposition of dielectrics thin films for ULSI semicoductor circuits显示文摘Cote D R Nguyen S V Stamper A K 1999IBM J Res Develop1999，43，12：1
10Plasma-assisted chemical vapor deposition of dielectrics thin films for ULSI semiconductor circuits 显示文摘COTE D R NGUYEN S V STAMPER A K 1999IBM Journal of Research & Development1999，43，12：1
11Characterization of plasma-enhanced chemical vapor deposited nitrides films used in very large scale integrated applications 显示文摘Stamper A K Pennington S L 1993J Electrochem Soc1993，140，：1
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