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1篇 您的检索式:作者名="G.Harm"
    题名 作者 年代 出处 被引量
1铜互连中有限尺寸效应的抑制显示文摘通过对铜电镀化学试剂、覆盖层厚度以及退火等条件的优化,可以将晶粒散射效应降低到最小程度,使铜互连电阻率只受到导线表面散射效应的限制。G.B.Alers J.Sukamto S.Park G.Harm J.Reid 2006集成电路应用2006,23,7:0
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